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晶化快速退火炉

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嘉仪通晶化快速退火炉RTP-3-01系列采用红外辐射加热技术,可实现1吋(选配2吋)样品快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到极佳的温场均匀性,对薄膜材料进行晶化快速退火处理,提高薄膜材料的均匀性及稳定性。



晶化快速退火炉产品特点:

快速加热和降温: *高可控升温速率可达50 ℃/s,特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率,特定条件下可达30 ℃/s。

 精确控温: 采用工业级温控器进行PID精确控温,目标温度与设定温度曲线一致性高,可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。

 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理(氮气、氩气等)。同时,通过选配真空泵,可以在真空条件下进行退火,*高真空度可达10-3Pa。

 配备观察窗口: 通过观察窗口,可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时,可以结合相关测试方法进行原位测试分析。

 超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统,全方位保障仪器使用安全。

 国产退火炉:拥有自主研发技术和制造能力,能快速反应客户售后需求。



晶化快速退火炉技术参数:



型号 RTP-3-01系列

*高温度 1200℃

*大升温速率 50℃/s

温度均匀性 ≦1%设定温度

温度控制 选用工业级温控器,控温精度±0.1℃

温度传感器 标准K型热电偶

*大降温速率 1200℃→400℃,200℃/min

400℃→100℃,20℃/min

(自然冷却)

*大样品尺寸 W20 x L20 x T2 (mm)

主机尺寸 W420X L320X H220 (mm)

主机重量 20.5kg



晶化快速退火炉客户案例:



清华大学使用嘉仪通1吋晶化快速退火炉给HfO2薄膜做晶化退火,得到晶相一致晶粒较小的晶体,提高薄膜材料的均匀性及稳定性。

 
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